PVD技术有哪些类型

PVD技术类型

PVD技术出现于20世纪70年代，相较于CVD技术，其工艺处理温度可控制在40-700℃，因此可作为各类机加工刀具、模具、零件和外观件，从而大幅提升各类工件的耐磨性、外观状态等表面性能。

PVD主要有三种类型：蒸镀（PVD，最早出现）、离子镀（IP）、离子溅射（MSD）。

80年代还产生了PVD、CVD相结合的等离子体化学气相沉积技术PECVD，它具有PVD的低温和CVD易于调节化学成分于结构的性能，但主要问题是真空度低，涂层杂质含量高，沉积速率过快导致的涂层晶格存在严重缺陷等问题，还处于技术发展阶段。

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一、PVD蒸发镀膜技术

真空镀膜，真空环境对蒸发镀膜具有决定性作用，因为蒸发的原子或分子于大量空气分钟碰撞，使膜层受到污染，甚至形成氧化物，难以形成均匀可重复的均匀膜。

蒸发镀的优缺点

• 优点：
  设备简单，厚度可控，效率高
• 缺点：
  不易获得结晶结构的膜，附着力小，工艺重复性不够好

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二、PVD磁控溅射技术