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PVD涂层的性能由三个方面控制，基材、界面和涂层表面。基材需要提供高强度支撑、PVD涂层高硬度且化学惰性，界面要求结合力好
PVD技术出现于20世纪70年代，相较于CVD技术，其工艺处理温度可控制在40-700℃，因此可作为各类机加工刀具、模具、零件和外观件，从而大幅提升各类工件的耐磨性、外观状态等表面性能。PVD主要有三种类型：蒸镀（PVD，最早出现）、离子镀（IP）、离子溅射（MSD）。
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行业通常叫真空镀膜设备，有分为离子镀设备、蒸发镀设备等。
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VD-Physical Vapor Deposition代表物理气相沉积。将固体靶材在真空环境中蒸发，广泛用于刀工具、模具、精密零件、微芯片、半导体器件、耐用保护膜、光学透镜、太阳能电池板和许多医疗设备，成为其核心表面处理技术
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